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MLL-C900
MLL-C900無掩膜直寫光刻設備是自主研發生產的一款精 巧型光刻產品,廣泛應用多種微納光刻加工領域的研究與 生產,光刻最小線寬600nm,套刻對準精度500 nm器件 直寫光刻功能。適用于小批量、多品種的科研院所使用
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